小型濺射儀儀問儀答

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：

1、膜(mo)(mo)厚檢測儀(yi)原(yuan)理：膜(mo)(mo)厚監(jian)測儀(yi)是采用(yong)石(shi)英(ying)晶體振(zhen)蕩原(yuan)理，利用(yong)頻率(lv)測量技術加上先(xian)進(jin)的數學算法(fa)，進(jin)行膜(mo)(mo)厚的在線鍍膜(mo)(mo)速率(lv)和實時(shi)(shi)厚度(du)計算。主要(yao)應(ying)用(yong)于(yu)MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜(mo)(mo)制備過程中，對膜(mo)(mo)層厚度(du)及鍍膜(mo)(mo)速率(lv)進(jin)行實時(shi)(shi)監(jian)測。

2、濺射儀是否可以(yi)鍍鎳：可以(yi)鍍鎳  但是 鎳是導磁(ci)金屬 所以(yi) 需(xu)要靶材盡量薄 0.5mm-1mm最好  太厚磁(ci)場無法穿透  濺射速(su)率很低。

3、直流濺射鍍(du)膜(mo)調節：1 靶材(cai)需要良好的導電性(xing), 如(ru)果具(ju)備(bei)這(zhe)個條(tiao)件  可(ke)以(yi)鍍(du)    2 遇到(dao)(dao)容(rong)易氧化(hua)的金(jin)屬(shu) 需要配備(bei)分子泵把本(ben)底真空抽(chou)到(dao)(dao)1E-3Pa 放氬氣(qi)維持真空到(dao)(dao)1Pa左右(you)鍍(du)膜(mo)的金(jin)屬(shu)接近(jin)本(ben)色。

鄭科探小型濺射儀

以上是小伙伴近(jin)期問的比(bi)較多的問題(ti)，如果還(huan)有什么問題(ti)歡迎咨(zi)詢(xun)。