鄭科探小型濺射儀功能優勢
1、樣品(pin)臺旋(xuan)轉,多樣品(pin)同(tong)時鍍膜時,鍍膜厚度比較均勻。
2、預濺射擋(dang)(dang)板(ban)功能,剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質,擋(dang)(dang)板(ban)可以保護樣品,提高薄膜質量
3、帶有水(shui)冷系統,可以長時間濺射(she)鍍(du)膜(mo),厚(hou)度可達1微米(mi)以上。
4、直流磁控濺射(she),提(ti)高附著(zhu)力,濺射(she)速率快,比離子濺射(she)快上一個量(liang)級。針(zhen)對(dui)某些(xie)金屬最快能達到1-2納米每(mei)秒,
5、不但(dan)可(ke)以(yi)電鏡制樣,還可(ke)以(yi)制作金屬電極。
6、可擴(kuo)展(zhan)膜(mo)厚監(jian)測,監(jian)測薄膜(mo)厚度。
濺射儀使用需注
1 靶材(cai)需要良好的導(dao)電性, 如果具備這個條件 可以鍍(du)
2 遇到容易氧化(hua)的金屬 需要(yao)配備分子泵把本(ben)底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左(zuo)右鍍(du)膜的金屬接近本(ben)色
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